真空鍍膜設備
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產品功能設備特點:可配置多只離子弧源,多個矩形平面弧源及磁控靶DLC膜層種類:TiN、TiCN、CrN、TiCrN、ZrN、TiAIN、TiO2、CrC、DLC等多種超硬膜膜層特點:膜層致密性和結合力強、膜層均勻、硬度高等優點
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產品功能磁控多弧濺射鍍膜機在真空狀態下,陰陽極間產生輝光放電,極間氣體分子被離子化而產生帶電電荷,其中正離子受陰極之負電位加速運動而撞擊陰極.上之靶材,將其原子等粒子濺出,此濺出之原子則沉積于陽極之基板上而形成薄膜,此物理現象即稱濺鍍,能對
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產品特征特點:既可以做五金制品又可以為塑料制品鍍膜性能:成膜速度快、操作簡單、生產成本低備注:鍍膜設備的具體配置可根據客戶產品及所需鍍膜工藝要求進行定制化設計
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電源采用先進的高頻開關電源技術,使用可靠的電子元器件,具有良好輸出波形及輸出特性。電源具有正脈沖.輸出,頻率、正電壓幅度及脈沖寬度均可獨立調節,電源設有過流、過熱等保護,具有較高穩定性。產品特點1.采用PWM技術2.開頻率最高可達40KHZ