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產(chǎn)品功能
磁控多弧濺射鍍膜機(jī)在真空狀態(tài)下，陰陽極間產(chǎn)生輝光放電，極間氣體分子被離子化而產(chǎn)生帶電電荷，其中正離子受陰極之負(fù)電位加速運(yùn)動(dòng)而撞擊陰極.上之靶材，將其原子等粒子濺出，此濺出之原子則沉積于陽極之基板上而形成薄膜,此物理現(xiàn)象即稱濺鍍，能對(duì)各種金屬及非金屬進(jìn)行表面鍍膜,是工業(yè)化生產(chǎn)理想設(shè)備。
產(chǎn)品特征
設(shè)備特點(diǎn):離化率高，沉積速率高、磁控濺射低溫穩(wěn)定
設(shè)備應(yīng)用:手機(jī)外殼、首飾、眼鏡架、表殼表帶、高爾夫球頭、3C產(chǎn)品等
膜層特點(diǎn):復(fù)合膜(功能膜)牢固度高、硬度高、韌性好備
注:鍍膜設(shè)備的具體配置可根據(jù)客戶產(chǎn)品及所需鍍膜工藝
要求進(jìn)行定制化設(shè)計(jì)
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